Prezentare generală a produsului
Acest echipament cu film subțire de evaporare cu fascicul de electroni este proiectat pentru depunerea fizică de vapori de înaltă{0}}precizie (PVD). Folosind un fascicul de electroni de înaltă energie-focalizat pentru a bombarda materialele sursă, sistemul realizează rate de evaporare ridicate pentru metale, oxizi și materiale dielectrice cu punct de-topire-înalt.
Construit pe o arhitectură de vid modulară, sistemul găzduiește tunuri cu electroni cu mai multe-buzunare, dispozitive de fixare personalizabile pentru substrat și monitorizare avansată-in situ. Deservește laboratoarele de cercetare și dezvoltare și liniile de producție-de producție mare care necesită un control strict asupra stoichiometriei filmului, aderenței și performanței optice.
-
![Echipament de evaporare cu fascicul de electroni în vid înalt]()
Echipament de evaporare cu fascicul de electroni în vid î...Sistemul de evaporare cu fascicul de electroni în vid înalt din seria EBE-depune pelicule subțiri de-puritate ridicată pentru aplicații optice, semiconductoare și metalurgice. Prin direcționarea...Vedeți mai multe -
![Sistem de depunere a filmului subțire cu fascicul de electroni]()
Sistem de depunere a filmului subțire cu fascicul de elec...Sistemul de depunere a filmului subțire cu fascicul de electroni oferă procesare PVD direcțională, de{0}}puritate ridicată, pentru cercetare avansată și producție industrială. Utilizând un...Vedeți mai multe -
![Echipament de evaporare în vid cu fascicul de electroni]()
Echipament de evaporare în vid cu fascicul de electroniAcest sistem de evaporare în vid cu fascicul de electroni execută depunerea fizică de vapori (PVD) a metalelor, oxizilor și dielectricilor cu punct de topire înalt--. Prin direcționarea unui...Vedeți mai multe -
![Echipament de depunere a filmului subțire cu fascicul de electroni]()
Echipament de depunere a filmului subțire cu fascicul de ...Acest sistem industrial de depunere a fasciculului de electroni utilizează tunuri de electroni focalizate magnetic (3 kW până la 15 kW) pentru a direcționa fluxurile de energie cu densitate...Vedeți mai multe -
![Sistem cu film subțire de evaporare cu fascicul de electroni]()
Sistem cu film subțire de evaporare cu fascicul de electroniSistemul de evaporare cu fascicul de electroni din seria EBE- este proiectat pentru depunerea fizică în vapori (PVD) a metalelor cu punct de topire-înalt-, dielectricilor și materialelor optice....Vedeți mai multe -
![Echipament cu film subțire de evaporare cu fascicul de electroni]()
Echipament cu film subțire de evaporare cu fascicul de el...Seria EBE-V600 este o platformă de depunere fizică de vapori (PVD) la scară-industrială, concepută pentru acoperirea precisă cu peliculă subțire-a componentelor optice, a dispozitivelor...Vedeți mai multe
Specificatii tehnice
|
Parametru |
Gama de specificații |
Note / Configurație standard |
|
Presiune de bază finală |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Obținut prin grupuri de pompare criogenice sau turbo-moleculare |
|
Dimensiunile camerei |
Personalizat (500 mm până la 1200 mm diametru interior) |
Oțel inoxidabil 304L / 316L, electro-lustruit |
|
E-Putere nominală a armei |
6 kW până la 15 kW (generatoare de baleiaj multi-buzunar) |
Deflexie programabilă a fasciculului și indexare cu mai multe-crezet |
|
Rata de depunere |
0,1 nm/s până la 10 nm/s |
Control în buclă-închisă-în timp real prin monitorul cu cristal de cuarț |
|
Uniformitatea grosimii filmului |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Dispozitiv de fixare pentru substrat planetar sau cupolă cu rotație cu viteză variabilă |
|
Temperatura substratului |
Ambient la 800 de grade |
Încălzire radiantă integrată cu feedback termic PID |
Caracteristici cheie ale echipamentului
Gun cu electroni cu stabilitate ridicată-:
Dispune de deflexie magnetică și focalizare în mai multe-puncte pentru a preveni supraîncălzirea locală a materialelor sursă și pentru a elimina scuipatul în timpul evaporării reactive.
Design creuzet modular:
Echipat cu focare indexabile cu 4 până la 6-buzunare, permițând depuneri în mai multe straturi fără a întrerupe vidul.
Interblocare avansată a vidului:
Supapele pneumatice controlate de PLC-, secvențierea automată de degroșare/vid-înalt și blocajele protejează împotriva întreruperii apei de răcire și a anomaliilor de alimentare.
Camera de-contaminare scăzută:
Ecranarea internă folosește oțel inoxidabil electro-lustruit cu căptușeli detașabile pentru reducerea rapidă a particulelor și întreținere.
Materiale și substraturi de film
Materiale de evaporare compatibile
Metale: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielectrici și oxizi: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Tipuri de substrat
Napolitane de siliciu (2 inch până la 12 inch)
Sticlă optică, silice topită și substraturi de cuarț
Filme polimerice flexibile (poliimidă, PET prin module rulo-la-roll)
Substraturi ceramice (Al2O3, AlN)
Aplicații
Acoperiri optice:
Acoperiri anti-reflectorizante (AR), filtre-în bandă îngustă și oglinzi cu-reflectivitate ridicată pentru sisteme laser și fotonice.
Dispozitive semiconductoare:
Formarea contactelor ohmice, metalizarea porții și procesarea -decupării pentru microelectronică.
Optoelectronica:
Straturi de oxid conductiv transparent (TCO) și filme subțiri pentru afișaje OLED și celule fotovoltaice.
Cercetare și dezvoltare avansată:
Straturi magnetice cu peliculă subțire-exploratoare, filme supraconductoare și heterostructuri multi-strat.
Personalizare și configurare a sistemului
Fiecare sistem de-film subțire este configurat pentru a se potrivi cu anumite rețete de proces și amenajări ale instalațiilor. Adaptările de inginerie disponibile includ:
Selectarea stivei de pompare:
Turbo-pompe moleculare (TMP), criopompe sau configurații de difuzie-de ulei, adaptate cerințelor de bază de vid și debit.
Încărcați-Blocați integrarea:
Încărcare manuală-Blocare sau sisteme automate cu mai multe-camere pentru a menține integritatea în vid ultra-înaltă și pentru a crește debitul plăcilor.
In{0}}Metrologie in situ:
Porturi de integrare pentru elipsometre spectroscopice, monitoare optice sau analizoare de gaz rezidual (RGA).
Software de control:
Interfață proprietară PLC/HMI cu stocare rețete, înregistrare a datelor și protocoale de comunicație SECS/GEM pentru integrarea în fabrică inteligentă.
Producție și control al calității
Fabricarea navei:
Toate camerele cu vid sunt supuse testării scurgerilor cu spectrometrul de masă cu heliu cu un prag de respingere < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Integritatea sudurii:
Sudarea TIG efectuată sub ecranare cu gaz inert, urmată de pasivarea suprafeței interioare și lustruirea mecanică pentru a reduce degajarea.
Testare de acceptare din fabrică (FAT):
Test de funcționare uscată continuă de -72-ore-măsurând curbele de pompare, precizia de măturare a pistolului electronic, timpii de răspuns la interblocare și stabilitatea termică înainte de montare.
Conformitate și standarde:
Fabricat conform unui sistem de management al calității certificat ISO 9001, cu sisteme proiectate pentru a respecta directivele CE și ghidurile relevante de siguranță și ergonomie SEMI (S2/S8).
FAQ
Suntem bine-cunoscuți ca unul dintre cei mai importanți producători și furnizori de echipamente cu film subțire pentru evaporarea fasciculului de electroni din China. Dacă aveți de gând să cumpărați echipamente personalizate cu film subțire de evaporare cu fascicul de electroni fabricate în China, bine ați venit să obțineți lista de prețuri din fabrica noastră. Pentru consultanță de preț, contactați-ne.
