Echipament cu film subțire pentru depunerea fizică în vapori (PVD).

Echipament cu film subțire pentru depunerea fizică în vapori (PVD).

Detalii
Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. este specializată în cercetarea și dezvoltarea echipamentelor avansate de depunere fizică în vapori (PVD), cu peliculă subțire, oferind soluții de acoperire de înaltă-performanță pentru aplicații industriale. Acest sistem integrează tehnologii de ultimă oră, cum ar fi pulverizarea cu magnetron, evaporarea arcului electric și placarea cu ioni și este echipat cu un sistem de filtrare electromagnetică îmbunătățit, care permite depunerea controlabilă a aliajelor la scară nano până la micro-, nitrură de metal și filme compozite cu aderență, uniformitate și dens excelente.
Clasificarea produselor
Echipamente cu film subțire
 
Trimite anchetă
Descriere
Parametrii tehnici

Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. este specializată în cercetarea și dezvoltarea echipamentelor avansate de depunere fizică în vapori (PVD), cu peliculă subțire, oferind soluții de acoperire de înaltă-performanță pentru aplicații industriale. Acest sistem integrează tehnologii de ultimă oră, cum ar fi pulverizarea cu magnetron, evaporarea arcului electric și placarea cu ioni și este echipat cu un sistem de filtrare electromagnetică îmbunătățit, care permite depunerea controlabilă a aliajelor la scară nano până la micro-, nitrură de metal și filme compozite cu aderență, uniformitate și dens excelente.

 

Descoperirile tehnologice de bază includ sistemul de filtrare electromagnetică și sistemul de scanare electromagnetică, combinate cu tehnologia de depunere reactivă îmbunătățită cu plasmă-, care poate filtra particulele neutre, grupurile mari de ioni de particule și alte impurități, îmbunătățind semnificativ puritatea fasciculului de plasmă și pregătind nano{{1}filme dense și uniforme, făcând stratul de film mai dur, cu o rezistență mai bună la coroziune.

 

Echipamentul adoptă un design modular de cameră cu vid, echipat cu combinații de ținte cu mai multe-arc și surse de plasmă de înaltă-densitate (HDP), cu o rată maximă de depunere de până la 5 microni pe minut, iar temperatura substratului poate fi controlată sub 200 de grade .

 

În plus, adoptă și modul PVD hibrid dezvoltat independent de Chunyuan și sistemul de îmbunătățire a ionizării gazului reactiv, astfel încât, în comparație cu echipamentele tradiționale, duritatea acoperirii este crescută la HV3500, iar densitatea defectelor este redusă cu 60%. Sistemul acceptă mai mult de 40 de tipuri de materiale de acoperire, cum ar fi AlCrN, TiSiCN și ZrO₂-Al₂O₃ nano-materiale compozite, cu cea mai mare duritate atingând 45GPa și o rezistență la temperatură care depășește 800 de grade. Este echipat cu o interfață Industry 4.0 și poate realiza optimizarea de la distanță a parametrilor prin modele de depunere bazate pe AI{10}}.

 

În prezent, acest echipament este utilizat pe scară largă în piese de precizie, microelectronică, piese auto, electronice de larg consum și domenii de acoperire decorativă. Rata de localizare a componentelor de bază ajunge la 85%, iar consumul de energie este cu 30% mai mic decât cel al produselor similare din UE, marcând o descoperire majoră în domeniul echipamentelor de acoperire-de vârf din China.

 

Tag-uri populare: Echipamente cu film subțire de depunere fizică de vapori (PVD), China producători de echipamente pentru depunere fizică de vapori (PVD) pentru peliculă subțire, furnizori, fabrică, Sistem de sputtering cu film subțire, Echipament de ambalare cu film subțire, Sistem de evaporare a filmului subțire

Trimite anchetă
Contactaţi-nedaca ai vreo intrebare

Ne puteți contacta prin telefon, e-mail sau formularul online de mai jos. Specialistul nostru vă va contacta înapoi în scurt timp.

Contactați acum!